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3纳米芯片光刻机(光电芯片研发出来了吗)

从技术竞争的角度来看,光芯片被认为是与国外研究进展差距最小的芯片技术,中国一直寄托着中国“换道超车”的希望。

据媒体报道,9月14日晚,中国科学家在国际顶级学术期刊《自然》上发表最新研究成果。他们首次获得纳米级光雕三维结构,在下一代光电芯片制造领域取得重大突破。

3纳米芯片光刻机(光电芯片研发出来了吗)

这一重大发明或将为未来光电芯片制造开辟一条新赛道。有望用于光电调制器、声滤波器、非易失性铁电存储器等关键光电器件芯片的制备。它将用于5G/6G通信、光计算、人工智能等领域。在智能等领域有着广阔的应用前景。

据报道,南京大学张勇、肖敏、朱世宁领衔的科研团队发明了一种新型“非互易飞秒激光偏振铁电畴”技术,将飞秒脉冲激光聚焦在材料“铌酸锂”内部晶体通过控制激光运动方向,在晶体内部形成有效电场,实现三维结构的直接写入和擦除。

这项新技术突破了传统飞秒激光器的光学衍射极限,首次将光刻铌酸锂三维结构尺寸从传统的1微米级(相当于头发丝的五十分之一)缩小至纳米级。时间。加工精度达到30纳米水平,大大提高了加工精度。

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